“镀膜设备”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5486119个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]镀膜设备-CN202010025246.X在审
发明人：吴兰峰;卢林;蒋秀林 -专利权人：晶澳（扬州）太阳能科技有限公司
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2020-04-17 - 主分类号： C23C16/30 文献下载
摘要：本发明涉及镀膜设备，所述镀膜设备包括：镀膜装置，所述镀膜装置用于在被镀膜件的表面进行镀膜；退火装置，所述退火装置用于对表面镀膜的被镀膜件进行退火处理；输送机构，所述输送机构用于输送所述被镀膜件依次通过所述镀膜装置以及所述退火装置本发明实施例的镀膜设备，集成了镀膜装置和退火装置，降低了设备成本，节约了生产场地，且较大的提高了生产效率，进而提高了产能。
镀膜设备

[发明专利]镀膜设备-CN201910058320.5在审
发明人：王培红;李晨光 -专利权人：南昌欧菲显示科技有限公司
申请日： 2019-01-22 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请公开了一种镀膜设备。本申请实施方式的镀膜设备镀膜腔、镀膜鼓和通气组件。镀膜鼓的一部分位于镀膜腔。基材缠绕镀膜鼓上，通气组件设置在镀膜鼓上，通气组件用于将外部气体导入至镀膜鼓的内部并传输至缠绕在镀膜鼓上的基材。本申请实施方式的镀膜设备中通气组件设置在镀膜鼓上，通过通气组件将外部气体传输到基材上，既能将基材缠绕在镀膜鼓上，又能带走基材的热量，保证基材的镀膜质量。
镀膜设备

[发明专利]镀膜设备-CN202310211036.3在审
发明人：林瓘丞;周宗震;吴景扬;简昆峰;高维笛 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： C23C26/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜设备。镀膜设备包括设备主体、调节组件以及安装部件，调节组件设于所述设备主体上，安装部件设于所述调节组件，且用于固定待镀膜产品。本申请的镀膜设备能够根据待镀膜产品的厚度等参数调节镀膜间距和镀膜倾角，适用性更广。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN201821169901.3有效
发明人：陈立国 -专利权人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2019-07-26 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请公开了一种镀膜设备，属于镀膜技术领域。所述镀膜设备包括：控制单元、镀膜腔体、对应一个镀膜腔体的至少两个卷绕装置，其中：至少两个卷绕装置分别完成基底的卷绕；控制单元控制至少两个卷绕装置交替进入一个镀膜腔体，以对基底进行镀膜。本申请解决了镀膜腔体在大气环境中的暴露时间长，且镀膜腔体进行抽真空所需的时间较长的问题，减少了镀膜腔体进行抽真空所需的时长，提高了镀膜的效率，本申请用于镀膜设备。
镀膜腔体镀膜设备卷绕装置抽真空镀膜基底申请大气环境镀膜技术卷绕时长暴露

[发明专利]镀膜设备-CN202211491045.4在审
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种镀膜设备，该镀膜设备包括载具运输线、上下料系统、镀膜腔体系统和中转系统，载具运输线用于运输基体载具，上下料系统用于实现基体在基体载具上的装载与卸载，基体镀膜腔体系统用于实现基体的双面镀膜，中转系统与基体镀膜腔体系统连接，中转系统用于将基体载具在载具运输线和基体镀膜腔体系统之间转换。该镀膜设备在一条连贯的生产线内部实现基体的双面镀膜，产品良率较高，设备布局面积较小，厂房使用效率较高。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202223141395.6有效
发明人：戴佳;朱鹤囡;董雪迪;张武;林佳继 -专利权人：拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司
申请日： 2022-11-25 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜设备，该镀膜设备包括载具运输线、上下料系统、镀膜腔体系统和中转系统，载具运输线用于运输基体载具，上下料系统用于实现基体在基体载具上的装载与卸载，基体镀膜腔体系统用于实现基体的双面镀膜，中转系统与基体镀膜腔体系统连接，中转系统用于将基体载具在载具运输线和基体镀膜腔体系统之间转换。该镀膜设备在一条连贯的生产线内部实现基体的双面镀膜，产品良率较高，设备布局面积较小，厂房使用效率较高。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202020231862.6有效
发明人：易伟华;张迅;郑芳平;徐彬彬;洪华俊 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2020-02-28 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜设备。上述镀膜设备用于给基板镀膜，镀膜设备包括第一中频镀膜室和伸缩件，第一中频镀膜室包括第一中频靶底板和第一靶材，第一中频靶底板设有两个，两个第一中频靶底板错开设置且存在间隔，每一第一中频靶底板设有第一靶材，基板能够从间隔穿过，伸缩件连接于第一中频靶底板，且能够带动第一靶材靠近或者远离基板，进而给基板镀膜。上述镀膜设备，错开的两个第一靶材可以同时对基板进行镀膜，有效的提高了镀膜的镀膜效率，同时第一中频靶底板上的伸缩件可以带动第一靶材靠近或者远离基板，使基板的镀膜操作过程更加灵活。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN201922151677.6有效
发明人：宗坚;冯国满 -专利权人：江苏菲沃泰纳米科技有限公司
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： C23C16/505 文献下载
摘要：本实用新型提供了一镀膜设备，其中所述支撑结构应用于一镀膜设备，供支撑至少一待镀膜工件，其中所述镀膜设备包括一反应腔体和具有一反应腔，所述支撑结构被容纳于该反应腔并且被支撑于该反应腔体，其中所述支撑结构被可导通地连接于该镀膜设备的一放电装置以作为电极放电
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202020430990.3有效
发明人：林育正;陈麒麟 -专利权人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种镀膜设备，包括真空腔体、离子镀膜源、导电部和保持部；离子镀膜源设于真空腔体内，设置为提供离子化的成膜粒子；导电部设于真空腔体内且与离子镀膜源相对设置，设置为在镀膜过程被施加相反于成膜粒子的电性的偏压，以吸引成膜粒子朝导电部方向移动；保持部用于承载基材，以将基材置于离子镀膜源和导电部之间，并使基材的待镀膜表面和离子镀膜源相对。本实用新型镀膜设备能够有效沉积镀膜，减少材料浪费。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202023145825.2有效
发明人：黎微明;李翔;吴兴华 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜设备，在进行异质结太阳能电池的镀膜时，第一镀膜机构、第二镀膜机构及第三镀膜机构分别实现I层、p层及n层的镀设。硅片在第一运输组件的带动匀速通过第一镀膜腔体，从而在两面形成I层；接着，基片依次进入第二镀膜腔体及第三镀膜腔体，从而得到p层及n层。在第二镀膜腔体及第三镀膜腔体内，工艺参数可单独进行调整，从而得到所需的窗口层以保证转换效率。由于硅片两侧的I层成分相同，故可以在第一镀膜腔体内同时成型。而且，I层镀膜时的工艺参数保持恒定，故多个硅片可以连续通过第一镀膜腔体，从而实现I层的连续动态的镀膜。因此，第一镀膜腔体的利用率显著提升，故上述镀膜设备的产能的以提高。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202120322923.4有效
发明人：来华杭;娄国明;谢斌斌;俞峰;周海龙 -专利权人：浙江上方电子装备有限公司
申请日： 2021-02-03 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本申请公开了一种镀膜设备，包括镀膜室以及转动安装于镀膜室内、用于承载镀膜工件的转架，镀膜设备还包括：气电组合滑环，带有相对的固定部和旋转部，固定部和旋转部上配置有相应的电路接头和流体接头，固定部相对于镀膜室固定安装，旋转部与转架绕相同轴线布置；晶振传感器，固定于转架、以采集镀膜厚度信号，晶振传感器通过导线与旋转部上的电路接头相连；冷却管路，与晶振传感器热耦合，冷却管路与旋转部上的流体接头连通。本申请的镀膜设备，通过将晶振传感器固定在转架上并跟随转架的转动而旋转，因此能够及时、准确的测量镀膜工件的膜厚度值。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202023289426.3有效
发明人：李时俊;陈麒麟;刘兵吉 -专利权人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23C16/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了镀膜设备，可用于在热丝化学气相沉积法中对衬底进行镀膜，所述镀膜设备包括至少两条用于对所述衬底进行镀膜的工艺线，所述工艺线通过传输装置连接，所述工艺线当中，包括一条第一工艺线，并且，在所述第一工艺线中，作为镀膜腔仅设置有用于在所述衬底的一面镀P型掺杂硅基薄膜的第一镀膜腔。根据根据本实用新型的镀膜设备，由于使用一条独立的工艺线(即第一工艺线)对衬底的一面镀P型掺杂硅基薄膜，因此能够防止在对衬底的一面镀P型掺杂硅基薄膜时和其他镀膜工艺之间产生交叉污染。
镀膜设备

[实用新型]镀膜设备-CN202120528080.3有效
发明人：曹欢笑;刘保磊;彭能;郭峰;刘敏;刘国祥;黄立 -专利权人：维达力实业（赤壁）有限公司
申请日： 2021-03-12 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种镀膜设备。该镀膜设备包括箱体、导轨、镀膜盘、滚轮、连接架以及驱动机构。导轨为闭环结构且固定连接于箱体的内部。镀膜盘固定连接于滚轮以随滚轮同步转动。采用上述镀膜设备对盖板进行镀膜加工时，镀膜盘上的盖板可以获取与连接架相同方向的转动，同时还能够获取与滚轮相同方向的转动，这样可以对盖板进行多方向、多角度的镀膜，有利于提高盖板上膜层的均匀性。
镀膜设备

[发明专利]镀膜设备-CN201710001780.5在审
发明人：高会朝;冯海清 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-01-03 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种镀膜设备，属于镀膜技术领域。镀膜设备包括相对设置的第一极板和第二极板，第二极板靠近第一极板的表面设置有开口面面积大于底面面积的凹槽，凹槽的截面为梯形，截面垂直于开口面，底面用于平置待镀膜基板。本发明解决了基板表面较容易发生断裂的问题，实现了防止待镀膜基板表面发生断裂的效果，本发明用于镀膜。
镀膜设备

[发明专利]镀膜设备-CN201410379728.X有效
发明人：郭世佳;刘滔滔;王云靖 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2014-08-04 - 公布日： 2014-10-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种镀膜设备，用于对基板执行镀膜工艺，所述镀膜设备包括：中央转盘；传送室，包括沿所述中央转盘外周配置的多个腔体，所述多个腔体包括进料腔体、至少一用于非金属镀膜的非金属镀膜腔体、至少一用于金属镀膜的金属镀膜腔体和出料腔体
镀膜设备

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top